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- E2M系列双级旋片泵
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- ES系列单级旋片泵
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- nXLi系列干式真空泵
- EDC系列爪式真空泵
- EOSi系列喷油螺杆泵
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- EDS系列干式螺杆泵
- GXS系列干式螺杆泵
- GV系列爪式真空泵
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- Stokes 6罗茨泵
- D-LAB系列隔膜真空泵
- nEXPT系列分子泵站
- nEXT系列涡轮分子泵
- EDP系列化工爪式干泵
- CXS系列化工螺杆真空泵
- CDX系列化工螺杆真空泵
- HT系列油蒸汽扩散泵
- iH系列半导体真空干泵
- iXH系列半导体真空泵
- iXL系列半导体真空干泵
- EPX系列半导体真空干泵
- GX系列半导体干式泵
产品详情
简单介绍:
iXH 干式工业级真空泵系统系列干泵产品是 Edwards 的市场 iH 产品的,为严苛制程能力 树立了新标准,它在上的许多 300mm 半导体和平板 工厂内通过提高制程性实现低成本。
iXH 干式工业级真空泵系统可满足 FPD、太阳能、 半导体和 LED 制造业中日益提高的气体流量要求的 大容量干泵和增压泵系列。 除了具有高峰值抽取速度外,这些泵还配备多种特性 以在严苛制程中具有大性。
详情介绍:
iXH 干式工业级真空泵系统
iXH 系列干泵产品是 Edwards 的市场 iH 产品的,为严苛制程能力 树立了新标准,它在上的许多 300mm 半导体和平板 工厂内通过提高制程性实现低成本。
可满足 FPD、太阳能、 半导体和 LED 制造业中日益提高的气体流量要求的 大容量干泵和增压泵系列。 除了具有高峰值抽取速度外,这些泵还配备多种特性 以在严苛制程中具有大性。
iXH 泵采用模块化设计,符合 当今的制程要求,并且对于前沿工厂中不断涌现的应用挑战 有着路线明确的应对计划。
应用
半导体的目标应用包括:
PECVD
高 K
低 K
SACVD
LPCVD
ALD
EPI
FPD 的目标应用包括:
PECVD
TCO
刻蚀
传输腔
主要特性和优势
针对的 EPI 和太阳能制程大幅提高了氢气抽取速度。
大容量干泵和 增压泵提供扩展的制程窗口以提高产量。
占地面积更小,高度更低,便于在任何工厂中安装。
iXH 系列干泵产品是 Edwards 的市场 iH 产品的,为严苛制程能力 树立了新标准,它在上的许多 300mm 半导体和平板 工厂内通过提高制程性实现低成本。
可满足 FPD、太阳能、 半导体和 LED 制造业中日益提高的气体流量要求的 大容量干泵和增压泵系列。 除了具有高峰值抽取速度外,这些泵还配备多种特性 以在严苛制程中具有大性。
iXH 泵采用模块化设计,符合 当今的制程要求,并且对于前沿工厂中不断涌现的应用挑战 有着路线明确的应对计划。
应用
半导体的目标应用包括:
PECVD
高 K
低 K
SACVD
LPCVD
ALD
EPI
FPD 的目标应用包括:
PECVD
TCO
刻蚀
传输腔
主要特性和优势
针对的 EPI 和太阳能制程大幅提高了氢气抽取速度。
大容量干泵和 增压泵提供扩展的制程窗口以提高产量。
占地面积更小,高度更低,便于在任何工厂中安装。
符合主要的标准,包括 UL、CE 和 S2。可以始终如一地使用或省略不用。