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Edwards STP301 用于电子显微镜和半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能,大的制程灵活性。STP301 已经由科学仪器、半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
此 STP 泵在供货时带有入口筛网。
如需完整安装,请订购一台 STP 泵、一个控制器、一根连接电缆和一根电源电缆。
应用
金属(铝)、钨和电介质(氧化物)以及多晶硅等离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源,射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理:射束线、加速器
放射线应用:融合系统、回旋
功能和优势
的转子
大的制程灵活性
无油
低振动
高度
免维护
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
技術データ
入口法兰
ISO100,CF100
KF25
抽速
N2
300 ls-1
H2
300 ls-1
压缩比
N2
>108
H2
>2 x 104
加热时的极限压力(VG/ISO 法兰)
6.5 x 10-6 Pa (5 x 10-8 Torr)
加热时的极限压力(ICF 法兰)
10-8 Pa (10-10 Torr)
大允许进气口压力(环境空气冷却)
0.066 Pa (5 x 10-4 Torr)
大连续压力(环境空气冷却)
13 Pa (0.1 Torr)
额定速度
48000 rpm
启动时间
3 min
高入口法兰温度
120 °C
输入电压
100 至 120 (± 10%) V 交流或
200 至 240 (± 10%) V 交流
启动时的功耗
0.55 kVA
泵重量
11 kg
控制器重量
7 kg