产品
- RV系列双级旋片泵
- E2M系列双级旋片泵
- nES系列单级旋片泵
- ES系列单级旋片泵
- nXDS系列干式涡旋泵
- nXLi系列干式真空泵
- EDC系列爪式真空泵
- EOSi系列喷油螺杆泵
- EH系列罗茨真空泵
- EDS系列干式螺杆泵
- GXS系列干式螺杆泵
- GV系列爪式真空泵
- T-Station涡轮分子泵小车
- STP系列涡轮分子泵
- Stokes滑阀泵
- Stokes 6罗茨泵
- D-LAB系列隔膜真空泵
- nEXPT系列分子泵站
- nEXT系列涡轮分子泵
- EDP系列化工爪式干泵
- CXS系列化工螺杆真空泵
- CDX系列化工螺杆真空泵
- HT系列油蒸汽扩散泵
- iH系列半导体真空干泵
- iXH系列半导体真空泵
- iXL系列半导体真空干泵
- EPX系列半导体真空干泵
- GX系列半导体干式泵
产品详情
简单介绍:
STP1003C 防腐蚀型爱德华磁悬浮涡轮分子泵是的涡轮分子泵,可用于的半导体应用。
STP1003C 防腐蚀型爱德华磁悬浮涡轮分子泵是Edwards 的转子可实现的性能,大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
详情介绍:
概述
Edwards 防腐蚀 STP1003C 是的涡轮分子泵,可用于的半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能,大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
应用
金属(铝)、钨和电介质(氧化物)以及多晶硅等离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源,射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理:射束线、加速器
放射线应用:融合系统、回旋
功能和优势
的转子
大的制程灵活性
无油
低振动
高度
免维护
可用于严苛制程(C 型)
使用寿命延长
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计
占地面积小
Edwards 防腐蚀 STP1003C 是的涡轮分子泵,可用于的半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能,大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
应用
金属(铝)、钨和电介质(氧化物)以及多晶硅等离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源,射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理:射束线、加速器
放射线应用:融合系统、回旋
功能和优势
的转子
大的制程灵活性
无油
低振动
高度
免维护
可用于严苛制程(C 型)
使用寿命延长
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
数据
入口法兰 | ISO200F |
KF40 | |
吹扫口 | KF10 |
抽速 |
|
N2 | 1000 ls-1 |
H2 | 800 ls-1 |
压缩比 |
|
N2 | >108 |
H2 | >105 |
加热时的极限压力(VG/ISO 法兰) | 10-7 Pa |
|
(10-9 Torr) |
加热时的极限压力(ICF 法兰) | 10-8 Pa |
|
(10-10 Torr) |
大连续压力 | 13 Pa |
|
(0.1 Torr) |
额定速度 | 35000 rpm |
启动时间 | 6 分钟 |
高入口法兰温度 | 120 °C |
输入电压 | 100 至 120 (± 10) V 交流或 |
|
至 240 (± 10) V 交流 |
启动时的功耗 | 0.8 kVA |
泵重量 | 31 kg |
控制器重量 | 9 kg |