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产品详情
简单介绍：
STPA803C 爱德华磁悬浮涡轮分子泵
STPA803C 爱德华磁悬浮涡轮分子泵
详情介绍：
概述
Edwards STPA803C 涡轮分子泵是为半导体应用而设计的。Edwards 的转子可实现的性能和大的制程灵活性。STPA803C 已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了。
应用
金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源，射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理：射束线、加速器
放射线应用：融合系统、回旋
功能和优势
的转子
大的制程灵活性
无油
低振动
高度
免维护
可用于严苛制程
使用寿命延长
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
Edwards STPA803C 涡轮分子泵是为半导体应用而设计的。Edwards 的转子可实现的性能和大的制程灵活性。STPA803C 已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了。
应用
金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源，射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理：射束线、加速器
放射线应用：融合系统、回旋
功能和优势
的转子
大的制程灵活性
无油
低振动
高度
免维护
可用于严苛制程
使用寿命延长
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
技術データ
| 入口法兰 | ISO160F |
| KF40 | |
| 吹扫口 | KF10 |
| 水冷却接头 | PT1/4 |
| 抽速 |
|
| N2 | 800 ls-1 |
| H2 | 520 ls-1 |
| 压缩比 |
|
| N2 | >108 |
| H2 | 103 |
| 加热时的极限压力 | 10-7 Pa (10-9 Torr) |
| 大连续压力 | 270 Pa (2 Torr) |
| 大氮气吞吐量 | 1500 sccm |
| 额定速度 | 32500 rpm |
| 启动时间 | 7 分钟 |
| 高入口法兰温度 | 120 °C |
| 输入电压 | 200 至 240 (± 10) V 交流 |
| 功耗 | 0.85 kVA |
| 泵重量 | 39 kg |
| 控制器重量 | 9 kg |
