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产品详情
简单介绍:
STP-L301C ISO100 爱德华真空涡轮分子泵为Edwards 的防腐蚀 STP-L301(C) 用于电子显微镜和半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能,大的制程灵活性。
STP-L301C ISO100 爱德华真空涡轮分子泵已经由科学仪器、半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
详情介绍:
概述
Edwards 的防腐蚀 STP-L301(C) 用于电子显微镜和半导体应用。Edwards的转子可实现的性能,大的制程灵活性。
STP-L301(C) 已经由科学仪器、半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
应用
金属(铝)、钨和电介质(氧化物)以及多晶硅等离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源,射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理:射束线、加速器
放射线应用:融合系统、回旋
功能和优势
的转子
大的制程灵活性
无油
低振动
高度
免维护
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
低振动
内置振动隔离系统提供了 STP301C 和外部隔离器的性能。
Edwards 的防腐蚀 STP-L301(C) 用于电子显微镜和半导体应用。Edwards的转子可实现的性能,大的制程灵活性。
STP-L301(C) 已经由科学仪器、半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
应用
金属(铝)、钨和电介质(氧化物)以及多晶硅等离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源,射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理:射束线、加速器
放射线应用:融合系统、回旋
功能和优势
的转子
大的制程灵活性
无油
低振动
高度
免维护
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
低振动
内置振动隔离系统提供了 STP301C 和外部隔离器的性能。
数据
入口法兰 | ISO100,CF100 |
KF25 | |
吹扫口 | KF10 |
抽速 |
|
N2 | 260 ls-1 |
H2 | 290 ls-1 |
压缩比 |
|
N2 | >108 |
He | 5 x 105 |
H2 | 2 x 104 |
加热时的极限压力(VG/ISO 法兰) | 6.5 x 10-6 Pa |
|
(5 x 10-8 Torr) |
加热时的极限压力(ICF 法兰) | 10-8 Pa |
|
(10-10 Torr) |
大允许进气口压力(环境空气冷却) | 6.7 x 10-2 Pa |
|
(5 x 10-4 Torr) |
大连续压力(环境空气冷却) | 13 Pa |
|
(0.1 Torr) |
额定速度 | 48000 rpm |
启动时间 | 3 min |
高入口法兰温度 | 120 °C |
输入电压 | 100 至 120 (± 10) V 交流或 |
|
200 至 240 (± 10) V 交流 |
启动时的功耗 | 0.55 kVA |
泵重量 | 13 kg |
控制器重量 | 7 kg |