产品详情
简单介绍：
STP-L301C ISO100 爱德华真空涡轮分子泵为Edwards 的防腐蚀 STP-L301(C) 用于电子显微镜和半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能，大的制程灵活性。
STP-L301C ISO100 爱德华真空涡轮分子泵已经由科学仪器、半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了。
详情介绍：
概述
Edwards 的防腐蚀 STP-L301(C) 用于电子显微镜和半导体应用。Edwards的转子可实现的性能，大的制程灵活性。
STP-L301(C) 已经由科学仪器、半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了。
应用
金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源，射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理：射束线、加速器
放射线应用：融合系统、回旋
功能和优势
的转子
大的制程灵活性
无油
低振动
高度
免维护
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
低振动
内置振动隔离系统提供了 STP301C 和外部隔离器的性能。
Edwards 的防腐蚀 STP-L301(C) 用于电子显微镜和半导体应用。Edwards的转子可实现的性能，大的制程灵活性。
STP-L301(C) 已经由科学仪器、半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了。
应用
金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源，射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理：射束线、加速器
放射线应用：融合系统、回旋
功能和优势
的转子
大的制程灵活性
无油
低振动
高度
免维护
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
低振动
内置振动隔离系统提供了 STP301C 和外部隔离器的性能。
数据
| 入口法兰 | ISO100，CF100 |
| KF25 | |
| 吹扫口 | KF10 |
| 抽速 |
|
| N2 | 260 ls-1 |
| H2 | 290 ls-1 |
| 压缩比 |
|
| N2 | >108 |
| He | 5 x 105 |
| H2 | 2 x 104 |
| 加热时的极限压力（VG/ISO 法兰） | 6.5 x 10-6 Pa |
|
|
(5 x 10-8 Torr) |
| 加热时的极限压力（ICF 法兰） | 10-8 Pa |
|
|
(10-10 Torr) |
| 大允许进气口压力（环境空气冷却） | 6.7 x 10-2 Pa |
|
|
(5 x 10-4 Torr) |
| 大连续压力（环境空气冷却） | 13 Pa |
|
|
(0.1 Torr) |
| 额定速度 | 48000 rpm |
| 启动时间 | 3 min |
| 高入口法兰温度 | 120 °C |
| 输入电压 | 100 至 120 (± 10) V 交流或 |
|
|
200 至 240 (± 10) V 交流 |
| 启动时的功耗 | 0.55 kVA |
| 泵重量 | 13 kg |
| 控制器重量 | 7 kg |
