产品详情
简单介绍：
STP1003C 防腐蚀型爱德华磁悬浮涡轮分子泵是的涡轮分子泵，可用于的半导体应用。
STP1003C 防腐蚀型爱德华磁悬浮涡轮分子泵是Edwards 的转子可实现的性能，大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了。
详情介绍：
概述
Edwards 防腐蚀 STP1003C 是的涡轮分子泵，可用于的半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能，大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了。
应用
金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源，射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理：射束线、加速器
放射线应用：融合系统、回旋
功能和优势
的转子
大的制程灵活性
无油
低振动
高度
免维护
可用于严苛制程（C 型）
使用寿命延长
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计
占地面积小
Edwards 防腐蚀 STP1003C 是的涡轮分子泵，可用于的半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能，大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了。
应用
金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源，射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理：射束线、加速器
放射线应用：融合系统、回旋
功能和优势
的转子
大的制程灵活性
无油
低振动
高度
免维护
可用于严苛制程（C 型）
使用寿命延长
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
数据
| 入口法兰 | ISO200F |
| KF40 | |
| 吹扫口 | KF10 |
| 抽速 |
|
| N2 | 1000 ls-1 |
| H2 | 800 ls-1 |
| 压缩比 |
|
| N2 | >108 |
| H2 | >105 |
| 加热时的极限压力（VG/ISO 法兰） | 10-7 Pa |
|
|
(10-9 Torr) |
| 加热时的极限压力（ICF 法兰） | 10-8 Pa |
|
|
(10-10 Torr) |
| 大连续压力 | 13 Pa |
|
|
(0.1 Torr) |
| 额定速度 | 35000 rpm |
| 启动时间 | 6 分钟 |
| 高入口法兰温度 | 120 °C |
| 输入电压 | 100 至 120 (± 10) V 交流或 |
|
|
至 240 (± 10) V 交流 |
| 启动时的功耗 | 0.8 kVA |
| 泵重量 | 31 kg |
| 控制器重量 | 9 kg |
