产品详情
简单介绍：
STPA1603C 爱德华磁悬浮涡轮分子泵
STPA1603C 爱德华磁悬浮涡轮分子泵
详情介绍：
概述
小巧而的 Edwards STPA1603C 涡轮分子泵采用 Edwards 的转子进行设计。它提供极高的吞吐量、高的性和的性能，满足半导体制程的需要。其半机架的控制器和紧凑型设计可节省可观的空间，而其的沉积减少系统提高了性和性能。STPA1603C 已经在新的 200 mm 刻蚀工具上得到了证明，也能够满足 300 mm 氧化物腐蚀制程的需要。
应用
金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源，射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理：射束线、加速器
放射线应用：融合系统、回旋
功能和优势
的转子设计
改进的性能
更高的气体吞吐量
高度
免维护
可用于严苛制程
5 轴磁悬浮系统
无污染
低振动
防腐蚀
可用于严苛制程
使用寿命延长
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
小巧而的 Edwards STPA1603C 涡轮分子泵采用 Edwards 的转子进行设计。它提供极高的吞吐量、高的性和的性能，满足半导体制程的需要。其半机架的控制器和紧凑型设计可节省可观的空间，而其的沉积减少系统提高了性和性能。STPA1603C 已经在新的 200 mm 刻蚀工具上得到了证明，也能够满足 300 mm 氧化物腐蚀制程的需要。
应用
金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源，射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理：射束线、加速器
放射线应用：融合系统、回旋
功能和优势
的转子设计
改进的性能
更高的气体吞吐量
高度
免维护
可用于严苛制程
5 轴磁悬浮系统
无污染
低振动
防腐蚀
可用于严苛制程
使用寿命延长
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
数据
| 入口法兰 | ISO200F |
| KF40 | |
| 吹扫口 | KF16 |
| 水冷却接头 | PT1/4 |
| 抽速 |
|
| N2 | 1600 ls-1 |
| H2 | 1200 ls-1 |
| 压缩比 |
|
| N2 | >108 |
| H2 | >7 x 103 |
| 加热时的极限压力 | 10-7 Pa |
| 大允许前级压力 | 266 Pa |
|
|
(2 Torr) |
| 大氮气吞吐量 | 2500 sccm |
| 额定速度 | 36500 rpm |
| 启动时间 | 7 分钟 |
| 固定位置 | 任意 |
| 水冷却流量 | 2 lmin-1 |
| 温度 | 5-25 °C |
| 压力 | 0.3 MPa |
| 的吹扫气体流量 | 20 sccm |
| 输入电压 | 200 至 240 (± 10) V 交流 |
| 功耗 | 0.85 kVA |
| 泵重量 | 35 kg |
| 控制器重量 | 9 kg |
