产品详情
简单介绍：
iH1000 Edwards半导体干式真空泵为难以执行的制程（如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品的 PECVD 和 LPCVD 制程）提供了高性。
iH1000 Edwards半导体干式真空泵在节省电机功率的同时大程度提高了工作繁重的 CVD 应用条件下的稳定性。
详情介绍：
iH1000 Edwards半导体干式真空泵概述
Edwards 半导体真空泵已经过现场应用证明，可以按照高工作标准运行。通过延长使用寿命、提高运行时间并提高生产率，同时大程度地减小占地面积、降低运行成本，实现了高的性和性能。iH 系列为难以执行的制程（如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品的 PECVD 和 LPCVD 制程）提供了高性。
iH1000 Edwards半导体干式真空泵应用
负载锁
输送
计量
平版印刷
PVD 制程
PVD 预清洁
RTA
剥离/灰化
刻蚀
植入源
HDP CVD
RTP
SACVD
MCVD
PECVD
LPCVD
ALD
有关任何特定应用条件下 iH 系统稳定性的建议，请与 Edwards 联系。
iH1000 Edwards半导体干式真空泵功能和优势
优化了设施消耗。
无需预防性维护。
悬臂轴和的异型转子便于颗粒的处理。
在节省电机功率的同时大程度提高了工作繁重的 CVD 应用条件下的稳定性。
耐腐蚀的制造材料允许泵送腐蚀性气体。
较高的工作温度为避免气体冷凝提供了充分的。
整体式轴杆无需使用电机联结器，而第五级泵消除了使用消音器的需要并消除了颗粒堆积，从而降低了总体占地面积。
iH1000 Edwards半导体干式真空泵数据
| 峰值速度 | 1000 m3h-1 |
| 589 cfm | |
| 16670 l min-1 | |
| 极限真空 | 1 x 10-3 mbar |
| 7.5 x 10-4 Torr | |
| 0.1 Pa | |
| 典型轴封氮流量 | 4 slm |
| 进气口连接 | ISO100 |
| 连接 | NW40 |
| 15 psi 压降下典型冷却水流量 | 240 l h-1 |
| 4 l min-1 | |
| 重量 | 430 kg |
| 极限功率输入 | 3.8 kW |
| 电机额定功率 | 6.1 kW |
| 油容量 | 1.48 l |
数字均为无气镇时的典型值。
iH1000 Edwards半导体干式真空泵订购信息
iH1000 干式泵 460V，60 Hz，3 相 A59030908
iH1000 干式泵 200/208V，50/60 Hz，3 相 A59030945
iH1000 干式泵 380/415V，50 Hz，3 相 A59030946
iH1000 干式泵 230V，60 Hz，3 相 A59030957
