【赫哲真空】真空界的新产品Edwards iXM系列--低能耗干泵

众所周知，Edwards在设计、和制造处于地位，其丰富的应用经验，为用户提供佳整体解决方案。在半导体，Edwards 紧随行业发展势头，牢牢抓住发展机遇，如今我们半导体真空泵产品更是占据了半导体真空泵的半壁江山，霸主地位不容忽视。毫不夸张的说，在半导体制造中，我们Edwards的产品必不可少！今天小编就为大家介绍半导体制造环节中必不可少的 iXM 系列干泵。

新产品Edwards iXM系列干泵致力于蚀刻和化学气相沉积工艺，为用户降低能耗。可能很多不熟悉半导体生产工艺的朋友对此不太了解。其实蚀刻和化学气相沉积工艺是半导体制造环节不可缺少的步骤。

蚀刻的基本原理是利用化学感光材料的光敏特性, 在基体金属基片两面均匀涂敷感光材料采用光刻方法, 将胶膜板上栅网产显形状地复制到金属基片两面的感光层掩膜上通过显影去除未感光部分的掩膜, 将裸露的金属部分在后续的加工中与腐蚀液直接喷压接触而被蚀除, 终获取所需的几何形状及度尺寸的产品蚀刻。而化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用为的用来沉积多种材料的，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说，它是很简单的：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。沉积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子，它是由硅烷和氮反应形成的。

• 真空界的新产品Edwards iXM系列是低能耗干泵，在关键半导体工艺上帮助用户提高制程稳定性并降低整体能耗。

  
  

• iXM为环保量身定制；高效的多级罗茨转子设计地使能耗降低至1.4kw，与前几代干泵相比降低了60%，减少了对环境的影响以及降低了用户使用成本。

  
  

• 氮气气帘和改进的散热设计使得其耐腐蚀性比iH系列产品高出四倍。的粉末处理功能意味着iXM将提供大的性，延长多层蚀刻和化学气相沉积工艺中泵的使用年限，降低用户能耗。

• 结构紧凑，设计轻巧，极低的噪音和振动声，使iXM成为Edwards众多产品中使用范围广的干泵。iXM将颠覆您对真空干泵的期望，为您带来真正的效益，大程度减少对环境的影响，提高设备稼动率。

• 低功率输入仅1.4千瓦

• 比前一代干泵功率减少60%

• 节能模式帮助用户节省用电和氮气等运行成本

  
  

• 4倍于前代产品的抗腐蚀能力

• 的粉尘处理能力

  
  

• 静音运行

• 体积轻巧

低能耗泵iXM系列，专为蚀刻和化学气相沉积流程而设计。它功率强，体积小，低噪音低。它具有高效电机和低损耗设计可提供极低的能耗，改进的氮气吹扫设计以及更加宽的温度设定范围延长泵在腐蚀环境下的使用寿命。独有的转子设计和更高的马达扭矩带来的粉尘处理能力，这些都成就了iXM系列在半导体真空泵界霸主地位。目前iXM 有型号：iXM200，iXM600，iXM1200 以及iXM1800。iXM就是未来，未来就是现在！后小编就为您奉上视频，带您一堵iXM的芳容。若对iXM 系列低能耗干泵感兴趣或有任何问题，欢迎联系我们。