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产品详情
简单介绍:
STPA1603C 爱德华磁悬浮涡轮分子泵
STPA1603C 爱德华磁悬浮涡轮分子泵
详情介绍:
概述
小巧而的 Edwards STPA1603C 涡轮分子泵采用 Edwards 的转子进行设计。它提供极高的吞吐量、高的性和的性能,满足半导体制程的需要。其半机架的控制器和紧凑型设计可节省可观的空间,而其的沉积减少系统提高了性和性能。STPA1603C 已经在新的 200 mm 刻蚀工具上得到了证明,也能够满足 300 mm 氧化物腐蚀制程的需要。
应用
金属(铝)、钨和电介质(氧化物)以及多晶硅等离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源,射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理:射束线、加速器
放射线应用:融合系统、回旋
功能和优势
的转子设计
改进的性能
更高的气体吞吐量
高度
免维护
可用于严苛制程
5 轴磁悬浮系统
无污染
低振动
防腐蚀
可用于严苛制程
使用寿命延长
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
小巧而的 Edwards STPA1603C 涡轮分子泵采用 Edwards 的转子进行设计。它提供极高的吞吐量、高的性和的性能,满足半导体制程的需要。其半机架的控制器和紧凑型设计可节省可观的空间,而其的沉积减少系统提高了性和性能。STPA1603C 已经在新的 200 mm 刻蚀工具上得到了证明,也能够满足 300 mm 氧化物腐蚀制程的需要。
应用
金属(铝)、钨和电介质(氧化物)以及多晶硅等离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源,射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理:射束线、加速器
放射线应用:融合系统、回旋
功能和优势
的转子设计
改进的性能
更高的气体吞吐量
高度
免维护
可用于严苛制程
5 轴磁悬浮系统
无污染
低振动
防腐蚀
可用于严苛制程
使用寿命延长
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
数据
入口法兰 | ISO200F |
KF40 | |
吹扫口 | KF16 |
水冷却接头 | PT1/4 |
抽速 |
|
N2 | 1600 ls-1 |
H2 | 1200 ls-1 |
压缩比 |
|
N2 | >108 |
H2 | >7 x 103 |
加热时的极限压力 | 10-7 Pa |
大允许前级压力 | 266 Pa |
|
(2 Torr) |
大氮气吞吐量 | 2500 sccm |
额定速度 | 36500 rpm |
启动时间 | 7 分钟 |
固定位置 | 任意 |
水冷却流量 | 2 lmin-1 |
温度 | 5-25 °C |
压力 | 0.3 MPa |
的吹扫气体流量 | 20 sccm |
输入电压 | 200 至 240 (± 10) V 交流 |
功耗 | 0.85 kVA |
泵重量 | 35 kg |
控制器重量 | 9 kg |