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Edwards STPA2203C 是为半导体应用而设计的涡轮分子泵。它使用的转子,可实现的性能,大的制程灵活性。全新的半机架控制器能够节省更多空间,而且采用直流驱动,无需电池即可运行。STPA2203C 已经由半导体和磁介质行业的大型刻蚀、离子注入和沉积设备制造商投入使用,并得到了。
应用
金属(铝)、钨和电介质(氧化物)以及多晶硅等离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源,射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理:射束线、加速器
放射线应用:融合系统、回旋
功能和优势
的转子设计
更高的气体吞吐量
大的制程灵活性
5 轴磁悬浮系统
无污染
少维护
防腐蚀
可用于严苛制程
使用寿命延长
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
数据
入口法兰
ISO250F
KF40
吹扫口
KF10
水冷却接头
PT1/4
抽速
N2
2200 ls-1
H2
1700 ls-1
压缩比
N2
>108
H2
>2.5 x 104
极限压力
10-6 Pa
(10-8 Torr)
允许的大前级压力
400 Pa
(3 Torr)
大氮气吞吐量
1500 sccm
额定速度
27000 rpm
启动时间
7 分钟
固定位置
任意
水冷却流量
2 lmin-1
水冷却温度
5-25 °C
压力
0.3 MPa
的吹扫气体流量
20 sccm
输入电压
200 至 240 (± 10) V 交流
功耗
1.5 kVA
泵重量
61 kg
控制器重量
12 kg